磁控濺射鍍膜機(jī)是一種用于在各種材料表面沉積薄膜的設(shè)備，在使用過程中有諸多需要注意的事項(xiàng)，以下從操作前、操作中、操作后三個(gè)階段進(jìn)行介紹：

操作前

• 設(shè)備檢查

• 檢查設(shè)備的各個(gè)部件是否正常，包括真空泵、濺射靶材、電源、氣體管路等，確保無損壞、松動(dòng)或泄漏等問題。

• 查看真空系統(tǒng)的真空度是否能達(dá)到規(guī)定要求，若真空度異常，需查找原因并解決，如檢查真空泵油位、更換密封件等。

• 靶材安裝

• 安裝靶材時(shí)要確保靶材安裝牢固，與濺射電源的連接良好，避免在濺射過程中出現(xiàn)靶材松動(dòng)、打火等現(xiàn)象。

• 注意靶材的清潔，避免靶材表面有灰塵、油污等雜質(zhì)，影響鍍膜質(zhì)量，可使用酒精等有機(jī)溶劑對(duì)靶材表面進(jìn)行擦拭清潔。

• 基片準(zhǔn)備

• 對(duì)待鍍膜的基片進(jìn)行嚴(yán)格的清洗和處理，去除表面的油污、灰塵、氧化物等雜質(zhì)，以提高薄膜與基片的附著力。

• 將基片正確安裝在鍍膜機(jī)的樣品臺(tái)上，確?；恢脺?zhǔn)確，與靶材之間的距離符合工藝要求。

操作中

• 氣體控制

• 嚴(yán)格控制濺射氣體（如氬氣）的流量和壓力，確保氣體流量穩(wěn)定，流量過大或過小都可能影響鍍膜的質(zhì)量和均勻性。

• 定期檢查氣體管路是否有泄漏，氣體純度是否符合要求，若氣體純度不足，可能會(huì)導(dǎo)致薄膜中出現(xiàn)雜質(zhì)，影響薄膜性能。

• 濺射參數(shù)設(shè)置

• 根據(jù)鍍膜材料和工藝要求，合理設(shè)置濺射功率、濺射時(shí)間、工作氣壓等參數(shù)。在濺射過程中，密切關(guān)注這些參數(shù)的變化，如有異常及時(shí)調(diào)整。

• 對(duì)于不同的靶材和基片材料，需要通過實(shí)驗(yàn)來確定濺射參數(shù)，以獲得理想的鍍膜效果。

• 觀察監(jiān)控

• 鍍膜過程中要通過觀察窗或監(jiān)控設(shè)備，實(shí)時(shí)觀察濺射情況，如等離子體的狀態(tài)、靶材的濺射效果等。若發(fā)現(xiàn)等離子體不穩(wěn)定、靶材出現(xiàn)異常濺射等情況，應(yīng)立即停機(jī)檢查。

• 注意設(shè)備運(yùn)行時(shí)的聲音和氣味，如有異常聲音或異味，可能表示設(shè)備存在故障，需及時(shí)處理。

操作后

• 設(shè)備清理

• 鍍膜完成后，及時(shí)清理設(shè)備內(nèi)部的濺射殘留物和灰塵等雜質(zhì)，可使用專門的清潔工具對(duì)真空腔室、靶材表面、樣品臺(tái)等部位進(jìn)行清理。

• 對(duì)設(shè)備外部進(jìn)行清潔，保持設(shè)備外觀整潔，防止灰塵等雜質(zhì)進(jìn)入設(shè)備內(nèi)部，影響設(shè)備性能。

• 靶材和基片處理

• 若靶材在濺射過程中有損耗，需根據(jù)情況及時(shí)更換或補(bǔ)充靶材，以保證下次鍍膜的效果。

• 對(duì)鍍膜后的基片進(jìn)行妥善處理和保存，避免薄膜受到劃傷、污染等損壞，同時(shí)對(duì)基片進(jìn)行檢測(cè)，如測(cè)量薄膜厚度、表面平整度等，評(píng)估鍍膜質(zhì)量。

• 關(guān)閉設(shè)備

• 按照設(shè)備操作規(guī)程，逐步關(guān)閉濺射電源、真空泵、氣體閥門等設(shè)備部件，確保設(shè)備安全關(guān)閉。

• 關(guān)閉設(shè)備電源總開關(guān)，切斷電源，防止設(shè)備在無人操作時(shí)出現(xiàn)意外情況。