多弧離子鍍膜設(shè)備：表面處理技術(shù)的革新力量

在材料表面處理領(lǐng)域，多弧離子鍍膜設(shè)備憑借其性能，正逐漸成為提升材料性能、拓展材料應(yīng)用范圍的關(guān)鍵技術(shù)裝備。從日常用品到高精度工業(yè)部件，多弧離子鍍膜設(shè)備的身影無(wú)處不在，為各行業(yè)產(chǎn)品質(zhì)量提升與功能拓展提供了有力支持。

2025-05-14 11:14:43丹陽(yáng)市寶來(lái)利真空機(jī)電有限公司

在材料表面處理領(lǐng)域，多弧離子鍍膜設(shè)備憑借出色性能，成為提升材料性能的關(guān)鍵裝備，多樣應(yīng)用于各行業(yè)。

多弧離子鍍膜機(jī)

其以冷陰極真空弧放電理論為基礎(chǔ)。真空電弧點(diǎn)燃后，陰極靶材表面光斑快速游動(dòng)，強(qiáng)大電流使金屬靶材氣化，原子電離成高能量正離子，如 Ti?，在真空室中與其他離子反應(yīng)后沉積在工件表面成膜。電荷轉(zhuǎn)移依賴(lài)場(chǎng)致電子發(fā)射與正離子電流機(jī)制，二者相互作用，保障放電穩(wěn)定，為鍍膜供能。

設(shè)備主要由四部分構(gòu)成。真空鍍膜室用品質(zhì)不銹鋼打造，定制化設(shè)計(jì)以營(yíng)造純凈穩(wěn)定的真空環(huán)境；弧源是主要組件，國(guó)內(nèi)多為小型弧源，國(guó)外大型弧源及多弧源配置可提升鍍膜效率與均勻性；真空獲取系統(tǒng)由機(jī)械泵、羅茨泵、分子泵等協(xié)作，將氣壓降至 10??Pa 以下；偏壓源通過(guò)施加負(fù)偏壓，調(diào)控離子運(yùn)動(dòng)與能量，精確控制鍍膜質(zhì)量。

該設(shè)備具備明顯的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。高沉積速率可達(dá) 100nm/s - 1000nm/s，適合大規(guī)模生產(chǎn)；高金屬離化率達(dá) 60% - 80%，增強(qiáng)涂層性能；高入射粒子能量使涂層更致密、結(jié)合更牢固；涂層致密度高，防護(hù)性能優(yōu)異；且設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、低電壓運(yùn)行，配備完善安全保護(hù)系統(tǒng)。

在應(yīng)用上，工業(yè)工具鍍膜可有效提升硬度與壽命，例如銑刀鍍上 TiAlN 涂層后，切削高溫合金時(shí)耐用度提升 3 倍；電子領(lǐng)域，智能手機(jī)芯片封裝采用鍍膜技術(shù)，抗靜電能力大幅增強(qiáng)；光學(xué)領(lǐng)域，單反相機(jī)鏡頭經(jīng)鍍膜處理后，光線透過(guò)率提升，成像色彩更真實(shí)；汽車(chē)制造中，發(fā)動(dòng)機(jī)活塞環(huán)鍍膜有效減少摩擦損耗；醫(yī)療器械方面，骨科植入物鍍膜后生物相容性提高，降低排異風(fēng)險(xiǎn)；航空航天領(lǐng)域，多弧離子鍍膜設(shè)備能為火箭發(fā)動(dòng)機(jī)渦輪葉片鍍上耐高溫、抗氧化涂層，滿(mǎn)足極端環(huán)境需求。

多弧離子鍍膜設(shè)備憑借獨(dú)特原理、先進(jìn)優(yōu)勢(shì)與廣泛應(yīng)用，為各行業(yè)發(fā)展提供有力支持，未來(lái)將發(fā)揮更重要作用。