磁控濺射鍍膜機：現(xiàn)代薄膜制備的重要裝備

在現(xiàn)代材料科學與表面工程領(lǐng)域，磁控濺射鍍膜機憑借獨特技術(shù)優(yōu)勢與多樣應(yīng)用，成為薄膜制備的關(guān)鍵裝備。

2025-05-28 09:00:00丹陽市寶來利真空機電有限公司

在現(xiàn)代材料科學與表面工程領(lǐng)域，磁控濺射鍍膜機憑借獨特技術(shù)優(yōu)勢與多樣應(yīng)用，成為薄膜制備的關(guān)鍵裝備。

磁控濺射鍍膜機

工作原理：磁電協(xié)同提升鍍膜效率

磁控濺射鍍膜機基于輝光放電，在真空室通入氬氣，于靶材和基片間施加高壓電場，氬氣電離產(chǎn)生的氬離子轟擊靶材，使靶材原子濺射到基片形成薄膜。與普通濺射不同，其在靶材表面設(shè)磁場，電子受洛倫茲力做螺旋運動，增加與氣體分子碰撞，產(chǎn)生更多氬離子，提升靶材原子濺射量，同時降低基片溫度，便于精確控制薄膜生長。

設(shè)備結(jié)構(gòu)：多系統(tǒng)精密協(xié)作

真空系統(tǒng)由機械泵、分子泵等多級真空泵構(gòu)成，將氣壓降至 10?3 - 10??Pa，配備真空計監(jiān)測氣壓。濺射系統(tǒng)含靶材、濺射電源與冷卻裝置，不同電源適配不同導(dǎo)電性靶材，冷卻裝置保障靶材穩(wěn)定?；幚砼c加熱系統(tǒng)，通過等離子清洗清潔基片，加熱提升基片原子活性。氣體流量控制系統(tǒng)調(diào)節(jié)氬氣、氧氣等氣體比例，制備不同薄膜?？刂葡到y(tǒng)采用計算機或 PLC 自動化調(diào)控，確保鍍膜過程穩(wěn)定。

技術(shù)優(yōu)勢：準確、多元

薄膜成分和厚度可控性強，可精確調(diào)節(jié)參數(shù)制備多層復(fù)合薄膜。鍍膜過程基片溫度低，薄膜純度高、致密度好、附著力強。適用材料種類多樣，金屬、陶瓷、高分子等均可作靶材，還能制備化合物薄膜。通過優(yōu)化設(shè)計，可實現(xiàn)平板顯示器等大面積基片均勻鍍膜。

應(yīng)用領(lǐng)域：多行業(yè)技術(shù)革新助力

電子信息領(lǐng)域，用于半導(dǎo)體芯片沉積金屬電極等薄膜，為觸摸屏濺射 ITO 薄膜。光學領(lǐng)域，制備相機鏡頭增透膜、汽車后視鏡高反射膜。新能源領(lǐng)域，提升太陽能電池光電轉(zhuǎn)換效率，改善鋰離子電池性能。生物醫(yī)療領(lǐng)域，在醫(yī)療器械表面鍍生物相容性薄膜，制備藥物緩釋膜。裝飾防護領(lǐng)域，提升飾品美觀與耐用性，為建筑玻璃鍍 Low - E 膜節(jié)能。

未來，磁控濺射鍍膜機將朝著更高效率、更準確控制、更多材料適用性發(fā)展，持續(xù)推動多領(lǐng)域技術(shù)突破與產(chǎn)業(yè)升級。